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第一七四六章 最后定调(第1/2 页)

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“157nm干式光刻机受到波长的限制,制程工艺只能达到75nm,不如BSEC浸润式光刻机的65nm,而且在提高制程工艺方面的难度较大,难以满足晶圆厂家对�

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